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硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则

国家标准
标准编号:GB/T 28274-2012 标准状态:现行
标准价格:31.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准规定了微结构加工时,光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。
本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积(PVD)、离子注入、反应离子刻蚀(RIE)、氢氧化钾(KOH)腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
英文名称:  Silicon-based MEMS fabrication technology—The basic regulation of layout design
什么是中标分类? 中标分类:  电子元器件与信息技术>>微电路>>L55微电路综合
什么是ICS分类?  ICS分类:  电子学>>31.200集成电路、微电子学
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2012-05-11
实施日期:  2012-12-01
首发日期:  2012-05-11
复审日期:  2023-12-28
提出单位:  全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
什么是归口单位? 归口单位:  全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
主管部门:  全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
起草单位:  北京大学、中机生产力促进中心、中国电子科技集团第十三研究所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、西北工业大学
起草人:  张大成、王玮、刘伟、杨芳、姜森林、崔波、熊斌、乔大勇
页数:  16页
出版社:  中国标准出版社
出版日期:  2012-12-01
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前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC336)提出并归口。
本标准起草单位:北京大学、中机生产力促进中心、中国电子科技集团第十三研究所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、西北工业大学。
本标准主要起草人:张大成、王玮、刘伟、杨芳、姜森林、崔波、熊斌、乔大勇。
引用标准
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GB/T26111—2010 微机电系统(MEMS)技术 术语

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