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刻蚀机用硅电极及硅环

国家标准
标准编号:GB/T 41652-2022 标准状态:现行
标准价格:29.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。本文件适用于p<100>直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200 mm~450 mm的硅电极及硅环。
英文名称:  Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
什么是中标分类? 中标分类:  冶金>>半金属与半导体材料>>H82元素半导体材料
什么是ICS分类?  ICS分类:  电气工程>>29.045半导体材料
发布部门:  国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
发布日期:  2022-07-11
实施日期:  2023-02-01
提出单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
什么是归口单位? 归口单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
起草单位:  有研半导体硅材料股份公司、山东有研半导体材料有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司
起草人:  库黎明、孙燕、闫志瑞、张果虎、夏秋良、潘金平
页数:  12页
出版社:  中国标准出版社
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