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重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

国家标准
标准编号:GB/T 14847-1993 标准状态:已作废
标准价格:20.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准规定了重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法。本标准适用于衬底室温电阻率小于0.02Ω·cm和外延层室温电阻率大于0.1Ω·cm且外延层厚度大于2μm的硅外延层厚度的测量。
英文名称:  Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance
标准状态:  已作废
什么是替代情况? 替代情况:  被GB/T 14847-2010代替
什么是中标分类? 中标分类:  冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法
什么是ICS分类?  ICS分类:  29.040.30
什么是UDC分类?  UDC分类:  669.782;535.39-15
什么是采标情况? 采标情况:  ASTM F95-1989,EQV
发布部门:  国家技术监督局
发布日期:  1993-01-02
实施日期:  1994-09-01
作废日期:  2011-10-01
首发日期:  1993-12-30
复审日期:  2004-10-14
什么是归口单位? 归口单位:  全国半导体材料和设备标准化技术委员会
主管部门:  国家标准化管理委员会
起草单位:  机电部四十六所
页数:  平装16开, 页数:8, 字数:12千字
出版社:  中国标准出版社
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