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| 英文名称： |
Direct writing imaging exposure equipment |
| 标准状态： |
即将实施 |
 中标分类： |
电子元器件与信息技术>>电子工业生产设备>>L97加工专用设备 |
| ICS分类： |
电子学>>31.260光电子学、激光设备 |
| 发布部门： |
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2024-03-15 |
| 实施日期： |
2024-10-01
即将实施 距离实施日期还有10天 |
| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) |
| 起草单位： |
合肥芯碁微电子装备股份有限公司、广州兴森快捷电路科技有限公司、安徽省工业和信息化研究院、深南电路股份有限公司、四创电子股份有限公司、中国电子技术标准化研究院、合肥矽迈微电子科技有限公司、深圳市克洛诺斯科技有限公司、深圳拜波赫技术有限公司 |
| 起草人： |
何少锋、陈新、邱醒亚、乔书晓、沈桂珍、朱颖、陈黎阳、方林、曲鲁杰、许静平、陈东、崔良端、陆培良、吴怡然、曹可慰、赵俊莎、李香滨、严孝年、鲁男、李娜、李照辉、吴新民 |
| 页数： |
20页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |