硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法 |
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标准编号:YS/T 23-1992 |
标准状态:已作废 |
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标准价格:8.0 元 |
客户评分:     |
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本标 准 规 定了根据堆垛层错尺寸测量硅处延层厚度的方法
本标 准 适 用于在<111>,tloo>和(110)晶向的硅单晶衬底仁生长的硅外延层厚度的测缝
外延 层 中 应存在着发育完整的堆垛层错,其大小可用干涉相衬显微镜r:接观察(非破坏性的),或经化学腐蚀后用金相显微镜观察(破坏性的)。测量范围为2^75 um. |
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