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| 英文名称： |
Test method for crystalline quality of semiconductive single crystal—X-ray diffraction method |
 中标分类： |
冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法 |
| ICS分类： |
冶金>>77.040金属材料试验 |
| 发布部门： |
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2023-08-06 |
| 实施日期： |
2024-03-01
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 起草单位： |
中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、 北京通美晶体技术股份有限公司、山东有研半导体材料有限公司、弘元新材料(包头)有限公司、哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司等 |
| 起草人： |
何烜坤、刘立娜、李素青、庞越、马春喜、许蓉、任殿胜、王元立、朱晓彤、李向宇、杨阳、潘金平、王书明、赵松彬、林泉、李国平、张新峰、赵丽丽、夏秋良 |
| 页数： |
12页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |