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| 英文名称： |
Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method |
 中标分类： |
冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法 |
| ICS分类： |
冶金>>金属材料试验>>77.040.30金属材料化学分析 |
| 发布部门： |
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会 |
| 实施日期： |
2019-04-01
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会（SAC/TC 203/SC 2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会（SAC/TC 203/SC 2) |
| 起草单位： |
江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司 |
| 起草人： |
鲁文锋、刘晓霞、秦榕、孙燕、赵而敬、王桃霞、赵玉、王忠慧、柳德发、张园园、银波、邱艳梅、刘强 |
| 页数： |
12页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2019-01-01 |