平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 |
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| 标准编号：YS/T 718-2009 |
标准状态：现行 |
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| 标准价格：14.0 元 |
客户评分：  |
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本标准有现货可当天发货一线城市最快隔天可到！ |
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本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。 |
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| 英文名称： |
Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating |
 中标分类： |
冶金>>有色金属及其合金产品>>H63稀有高熔点金属及其化合物 |
| ICS分类： |
冶金>>有色金属产品>>77.150.99其他有色金属产品 |
| 发布部门： |
中华人民共和国工业和信息化部 |
| 发布日期： |
2009-12-04 |
| 实施日期： |
2010-06-01
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| 提出单位： |
全国有色金属标准化技术委员会 |
| 归口单位： |
全国有色金属标准化技术委员会 |
| 主管部门： |
全国有色金属标准化技术委员会 |
| 起草单位： |
金川集团有限公司 |
| 起草人： |
汪锦瑞、宋谋通、郭大鹏、李娟、林秀英、吴亚辉 |
| 页数： |
8页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2010-06-01 |
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本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口.
本标准起草单位:金川集团有限公司.
本标准主要起草人:汪锦瑞、宋谋通、郭大鹏、李娟、林秀英、吴亚辉. |
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