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| 英文名称： |
Test method of particles on silicon wafer surfaces |
| 标准状态： |
已作废 |
 替代情况： |
被GB/T 19921-2018代替 |
| 中标分类： |
冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法 |
| ICS分类： |
冶金>>金属材料试验>>77.040.01金属材料试验综合 |
| 采标情况： |
SEMI M25-1995 NEQ SEMI M35-0299 NEQ SEMI M50-1101 NEQ ASTM F1620-1996 NEQ ASTM F1621-1996 NEQ |
| 发布部门： |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2005-09-19 |
| 实施日期： |
2006-04-01
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| 作废日期： |
2019-07-01
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| 首发日期： |
2005-09-19 |
| 提出单位： |
中国有色金属工业协会 |
| 归口单位： |
全国有色金属标准化技术委员会 |
| 主管部门： |
中国有色金属工业协会 |
| 起草单位： |
北京有色金属研究总院 |
| 起草人： |
孙燕、卢立延、董慧燕、刘红艳、翟富义 |
| 计划单号： |
20000544-T-610 |
| 页数： |
16开， 页数：10， 字数：16千字 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 书号： |
155066.1-26924 |
| 出版日期： |
2005-12-16 |
| 标准前页： |
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